简介:摘要:目前涂层树脂的消光效果主要通过外添加消光剂与树脂的自消光改性两种方式获得。传统的水性聚氨酯消光树脂主要是通过添加消光剂 SiO2和消光树脂的方法制备。外添加消光剂方法一般是将消光剂添加在水性聚氨酯体系中,成膜时涂层水分蒸发后,涂层表面的颗粒状消光剂会使涂层表面凹凸不平,从而达到消光效果,但消光剂易发生沉降,使乳液的稳定性降低,且若混合不均则存在涂层的光泽有差异等问题。采用消光剂二氧化硅改性水性聚氨酯制备消光型皮革涂饰剂,使得被涂饰的皮革表面的消光感明显增强,且手感变好。但外添加的消光剂与聚氨酯树脂不易很好匹配,可能存在乳液不稳定、涂层脆性增大等问题。自消光树脂是指在涂料树脂中无需外添加消光粉或消光蜡等,成膜后就具有表面消光效果的涂料树脂。自消光树脂因其组分具有与消光剂颗粒相似的物化性质及光能团结构,在与其他树脂复配后具有较好的相容性及成膜后相近的折光系数,有效解决了外添加消光剂带来的问题。制备以水合肼为后扩链剂,不添加消光剂,即可达到消光效果的水性聚氨酯,其 60°光泽度最低可达 1.5,但其只探讨了扩链剂种类及用量、 R值〔 n(—NCO)∶n(—OH)〕等对 WPU膜光泽的影响,并未做过多其他性能的探究。用端羟丙基聚二甲基硅氧烷改性水性聚氨酯消光树脂,只对胶膜光泽度及吸水率进行了测试,缺少力学等其他方面的分析,且消光性能不是特别好, 60°光泽度在 10.9以上。用环氧树脂改性高固含水性聚氨酯消光树脂,主要进行环氧树脂对水性聚氨酯耐水解性能和耐热性能的研究,并未进行环氧树脂对消光性能进行研究。基于以上分析,可利用有机硅聚合物的表面能低、与水性聚氨酯相容性差的特点和环氧树脂具有化学稳定性好、粘接力强、收缩率低、力学强度和化学稳定性好等优点双重改性来制备水性聚氨酯消光树脂,原料廉价易得、制备工艺简单、环保无害,具有良好的应用前景。
简介:摘要在硅锰合金的样本中往往会夹杂些碳化硅杂质,而在化学检测中的硅时,往往会因为其内碳化硅成分没有被有效剔除,使得测量结果出现偏差,一般表现为偏低。而对锰硅合金中硅含量的分析往往会对炼钢生产作业中起重要引领作用,因此有必要在硅含量检测方面进行研究。本文从氟硅酸钾容量法对合金中硅含量测定中的酸性、加入量等因素进行分析,测量结果可信度较高。
简介:摘要:目前涂层树脂的消光效果主要通过外添加消光剂与树脂的自消光改性两种方式获得。传统的水性聚氨酯消光树脂主要是通过添加消光剂 SiO2和消光树脂的方法制备。外添加消光剂方法一般是将消光剂添加在水性聚氨酯体系中,成膜时涂层水分蒸发后,涂层表面的颗粒状消光剂会使涂层表面凹凸不平,从而达到消光效果,但消光剂易发生沉降,使乳液的稳定性降低,且若混合不均则存在涂层的光泽有差异等问题。采用消光剂二氧化硅改性水性聚氨酯制备消光型皮革涂饰剂,使得被涂饰的皮革表面的消光感明显增强,且手感变好。但外添加的消光剂与聚氨酯树脂不易很好匹配,可能存在乳液不稳定、涂层脆性增大等问题。自消光树脂是指在涂料树脂中无需外添加消光粉或消光蜡等,成膜后就具有表面消光效果的涂料树脂。自消光树脂因其组分具有与消光剂颗粒相似的物化性质及光能团结构,在与其他树脂复配后具有较好的相容性及成膜后相近的折光系数,有效解决了外添加消光剂带来的问题。制备以水合肼为后扩链剂,不添加消光剂,即可达到消光效果的水性聚氨酯,其 60°光泽度最低可达 1.5,但其只探讨了扩链剂种类及用量、 R值〔 n(—NCO)∶n(—OH)〕等对 WPU膜光泽的影响,并未做过多其他性能的探究。用端羟丙基聚二甲基硅氧烷改性水性聚氨酯消光树脂,只对胶膜光泽度及吸水率进行了测试,缺少力学等其他方面的分析,且消光性能不是特别好, 60°光泽度在 10.9以上。用环氧树脂改性高固含水性聚氨酯消光树脂,主要进行环氧树脂对水性聚氨酯耐水解性能和耐热性能的研究,并未进行环氧树脂对消光性能进行研究。基于以上分析,可利用有机硅聚合物的表面能低、与水性聚氨酯相容性差的特点和环氧树脂具有化学稳定性好、粘接力强、收缩率低、力学强度和化学稳定性好等优点双重改性来制备水性聚氨酯消光树脂,原料廉价易得、制备工艺简单、环保无害,具有良好的应用前景。
简介:摘要:氮化硼二维纳米材料作为类石墨烯二维纳米材料的一种,在某些方面具有与石墨烯互补的性质,如较宽的带隙,更优良的化学稳定性、热稳定性,独特的紫外发光性能等,是制备电子器件绝缘膜、高温功率器件、紫外发光元件等元器件的理想材料。氮化硼-石墨烯二维复合纳米材料极大提高了石墨烯的电导率和导热性,在超微型计算机,微电子机器人等方面具有广阔应用。但由于其特殊的分子间作用力,氮化硼二维纳米材料的制备还存在许多问题。近年来,氮化硼二维纳米材料制备技术的研究成为材料科学界的研究热点之一。
简介:采用程序升温氮化的方法制备了钼氮化物催化剂,并用EXAFS方法研究了氮化前后Mo原子的局域配位情况。负载MoO3样品的径向结构函数中有三个峰其中前两个峰对应着最近的Mo-O配位壳层,但是第一个峰与第二个峰的比例比晶体MoO3中的比例大很多,表明分子筛负载的MoO3具有更紧密的结构。氮化以后,Mo2N样品的径向结构函数中有三个峰,对应于一个Mo-N和两个Mo-Mo配位壳层,与面心立方模型符合的很好。根据X射线衍射和EXAFS谱的计算表明,Mo2N中的N原子使Mo-Mo键拉长并削弱。分子筛负载的Mo2N样品具有与非负载Mo2N样品相似的径向结构函数,只是对应于Mo-N壳层的峰较弱,表明负载的MoO3更难氮化。