简介：

简介：探讨磷酸用量、高氯酸用量、冒烟时间以及加热温度四个因素对硫酸亚铁铵滴定法测定氮化硅锰中的锰含量测定结果的影响。采用正交试验找出各因素对测定结果的影响主次关系以及最优条件。结果表明，影响硅锰合金中锰含量测定的各因素的主次关系是：加热温度〉冒烟时间〉高氯酸的用量〉磷酸的用量。最优的分析条件是磷酸的用量是20mL，高氯酸的用量是2mL，冒烟时间是230s，加热温度是240℃。该方法简单、方便，满足氮化硅锰中锰的测定。

简介：

简介：摘要：氮化硅具有优异的物理化学性能，在国防、电子信息等关键领域都占据重要的地位。本文综述了当前国内外制备Si3N4粉体的方法。

简介：摘 要：本文拟从反应气体流量、射频电源的功率、产品表面温度和产品与喷头之间的距离四个方面单因素探索每个工艺条件对产品钝化膜层质量所产生的影响，从中得出每个因素单方面最适宜生产产品的工艺参数。然后再通过正交实验，设计 4因素 5水平试样，将各个工艺参数的影响综合进行比较，从中得出最适合生产的工艺参数。在 650V高压 VDMOS功率器件的表面制备 4KÅ氮化硅钝化膜的最佳工艺参数组合为：反应气体流量比例为 38:14，射频功率为 350W，硅片表面的温度为 390℃，硅片与喷头的距离为 340mils。经过试验得出结论，供 VDMOS半导体技术工作者参考。

简介：

简介：摘要：科技的进步，促进工程建设事业得到快速发展。工程陶瓷具有硬度高、强度高、耐磨损、热膨胀系数低以及绝缘等优良性能，被广泛应用于机械和航空等领域。由于陶瓷材料具有硬脆特性，磨削加工是其主要的加工方式。在陶瓷磨削加工过程中，涉及到力学、热学、材料学以及化学等多学科问题，在多场强作用下的磨削机理有待进一步揭示。与其他加工方式不同的是，在磨削过程中去除单位体积材料需要大量的能量，这些能量最终都以热的形式进行转化，只有一小部分用于形成新的表面，这会导致磨削区产生较高的磨削温度，而表面温度过高又会对陶瓷表面质量、加工精度、加工效率以及砂轮磨损产生很大影响。此外，陶瓷材料的抗热冲击性能差，高温时会在磨削表面形成烧伤与热裂纹，极大影响其使用寿命。本文就氮化硅陶瓷磨削温度与表面裂纹扩展展开探讨。

简介：摘要：氮化硅陶瓷牙科修复材料作为一种新型高性能陶瓷牙科修复材料已经引起广泛关注。其优点包括高硬度、高强度、高温度稳定性、良好的生物相容性等。本文综述氮化硅陶瓷牙科修复材料的制备及应用领域，着重介绍了其在全瓷牙修复、全口修复、种植修复、颜色修复、外科修复和辅助设备制作等方面的应用。同时，还对当前研究中存在的问题及未来研究方向进行了分析和探讨。

简介：本文在介绍晶须生长机制的基础上分析了氮化硅晶须的结构特点及物化性能,并简单介绍了氮化硅的制备方法,阐述了其作为复合材料的应用现状,并对其发展方向作了展望。

简介：采用X射线衍射应力分析的sin2ψ法计算了Si3N4陶瓷试样的残余应力,并分别测量了表面处理前后Si3N4试样的力学性能.结果表明,经平面磨削后的Si3N4试样表面残余应力为拉应力,而抛光处理可适当降低残余应力.两种方法都使试样抗弯强度降低.

简介：【摘要】 点焊在汽车制造中得到广泛的应用，点焊过程中的焊接分流，严重影响焊接质量。根据氮化硅陶瓷材料的物理性能，结合在汽车焊接中的分流现象，对氮化硅陶瓷材料在焊接夹具上的应用进行了分析和验证，研究出氮化硅陶瓷材料在焊接夹具上的应用方法。

简介：本文论述了氮化硅结构陶瓷材料的性能,着重介绍了此种材料在国内外制造业中的应用现状,也讨论了氮化硅陶瓷的缺陷及研究方向.

简介：

简介：本发明涉及作为医用生物材料的氮化硅的组合物生产和应用。所述材料可作为带表面的矫形外科生物材料用于人工关节中的磨损面，例如髋关节和膝关节。通过制备和混合混合物粉末进行制造，所述粉末含有70％～100％(体积)氮化硅，并添加0％～30％(体积)下列材料的一种或其混合物：二氧化锆、二氧化钇、二氧化钛、氧化钙、碳化硅和富铝红柱石。混合物成型后经受超过500MPa的高压和在500～3000℃之间的温度下烧结(HTP)。所述材料可用于人工关节中的一个、两个或所有磨损表面。

简介：用粒径为20nm的纳米氮化硅（Si3N4）填充丁腈橡胶（NBR）制备纳米橡胶复合材料，用16^#大分子偶联剂对纳米Si3N4进行表面处理，研究了复合材料的力学性能和热老化性能等。结果表明，纳米Si3N4的加入在一定程度上提高了NBR的撕裂强度、拉伸强度、耐磨性等，明显降低内耗，改善了橡胶的动态力学性能和耐热老化性能；初步的台架试验显示，添加0．5-1．5质量份左右纳米Si3N4的NBR油封制品使用寿命得到大幅提高。

简介：以硝酸-氢氟酸分解样品，高氯酸冒烟驱除硝酸及氢氟酸，将磷全部氧化成正磷酸，铋盐存在下，抗坏血酸还原成铋磷钼蓝于分光光度计660hm波长下比色。

简介：摘要：以TFT工艺为基础的器件，主要的材料包括绝缘层（SiNx）、非晶硅半导体层（a-Si）和电极层材料。其中，绝缘层和非晶硅层需要通过CVD成膜制备。在所有CVD成膜技术中，PECVD可以起到明显的增强效果，该种技术的能量来自等离子体（Plasma），反应气体的活性增加，保证薄膜在积淀之后可以更加均一，同时具有良好的覆盖率。本文主要分析了工艺参数对PECVD氮化硅成膜效率的影响，在实验的过程中对以射频功率为代表的几个参数进行调整，最后得出相关的实验结论。

简介：摘要：氮化硅纳米纤维增强复合材料作为一种新型的功能材料，在材料科学领域引起了广泛的关注。本文以制备氮化硅纳米纤维增强复合材料为目标，探究了不同制备工艺对复合材料力学性能的影响。首先，采用溶胶-凝胶法制备出氮化硅纳米纤维，得到了具有较高纤维直径和较低比表面积的氮化硅纳米纤维。接着，采用真空浸渍法将氮化硅纳米纤维与基体材料进行复合，通过调控浸渍时间和浸渍剂浓度等参数，得到了不同含量的氮化硅纳米纤维增强复合材料。最后，通过力学性能测试，分析了不同含量的氮化硅纳米纤维对复合材料的强度、刚度和断裂韧性的影响。结果表明，随着氮化硅纳米纤维含量的增加，复合材料的强度和刚度呈现出增加的趋势，而断裂韧性则呈现出先增加后减小的变化趋势。综合考虑，本研究为进一步优化氮化硅纳米纤维增强复合材料的制备工艺和力学性能提供了重要的参考。

简介：摘要现阶段的低电压铝电解槽生产中，侧部碳化硅升起现像比较普遍，甚至出现顶坏电解槽槽沿板的情况。露出电解槽的部分碳化硅会出现不同程度的氧化，从而造成电解槽破损。为了防止电解槽侧部早期破损，达到延长电解槽槽寿命的目的，必须对侧部碳化硅升起进行严格的控制。

简介：通过化学气相沉积在短碳纤维表面制备C/SiC复合涂层，然后采用凝胶注模法制备纤维体积分数分别为2%和4%的Cf/Si3N4复合材料，利用X射线衍射与扫描电镜对该材料的物相与组织结构进行分析，研究短碳纤维对Si3N4陶瓷力学性能的影响。结果表明：随碳纤维体积分数增加，Cf/Si3N4复合材料的密度和抗弯强度降低，但断裂韧性明显提高。当纤维体积分数为4%时，材料的断裂韧性达到8.91MPa·m1/2，比氮化硅陶瓷提高1.6倍，材料主要由长柱状的β-Si3N4基体、C/SiC涂层及碳纤维组成，碳纤维表面的C/SiC双涂层可防止高温下碳纤维与氮化硅基体发生反应，使碳纤维与氮化硅基体界面结合良好，以提高材料韧性并保证有合适的强度，满足功能材料在一定条件下的使用要求。