Residual Strain and Electronic Characteristics of Si-doped GaN

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摘要 剩余紧张和损坏由Si培植导致了在轧了样品被学习了,以及电子特征。这些成长得当的样品与Si的不同剂量被植入(1
机构地区 不详
出版日期 2008年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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