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简介：TP333.498963677光盘信息处理的理论分析=Theoreticalanalysisonopticaldiscinformationprocessing[会,中]/宋贵才,李雄,陈亚孚(长春光机学院.吉林,长春(130022))//全国第八次光纤通信暨第九届集成光学学术会议.—湖北武汉,97.10

简介：探讨了利用多媒体技术进行《模拟电子技术》课程教学手段改革的必要性,多媒体技术的发展为《模拟电子技术》课程教学手段改革带来的启示,科学有效地使用多媒体是教学手段改革的关键。多媒体技术在教学领域中使用存在的问题及其展望。

简介：摘要在信息化、智能化时代下，电力企业在发展的过程中逐渐实现了智能化电网的建设，以借助智能化技术来确保电网的安全可靠运行，提高电力企业的经济效益。但是，在实际落实智能化变电站运行维护技术的过程中，依旧存在着一系列问题，致使难以确保智能电网的安全稳定运行，且运维成本投入较大，严重削弱了电力企业综合效益的有效获取。基于此，本文针对变电运维技术中的智能化技术进行了研究与探讨，以供参考。

简介：摘要随着我国电力系统及其自动化技术的不断提升与发展，其运用也越来越广泛，而对于其安全控制技术的提升也非常有必要性。尽管电力系统及其自动化技术的发展极为迅速，但是客观来说也不是绝对成熟，所以在具体操作过程中也需要掌握对电力系统及其自动化技术的安全控制技术，这对于工作人员在实际操作中提高自身安全系数和保证工作质量都有促进作用。本文主要通过对电力系统及其自动化技术的安全控制技术进行探究分析，探讨其存在的问题及不足，再分析给出具体的建议，希望能够加快我国电力系统及其自动化技术的安全控制技术发展。

简介：TH74596010672舰载光电子装备的发展=Developmentofcarrier—basedphotoelectronicequipment[刊,中]/孙成禄(华中光电技术研究所。湖北,武汉(430073))∥舰

简介：第一部分：化学品及企业标志化学品中文名称：四[β-（3，5-二叔丁基-羟基苯基）丙酸]季戊四醇酯化学品俗名或商品名：抗氧剂1010

简介：论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等,并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及

简介：《中国惯性技术学报》是由中国科协主管,中国惯性技术学会主办的面向全国的自然科学专业性学术刊物。它以邓小平理论、“三个代表”为指导思想,以传播先进科技成果和信息,促进惯性技术发展、培养科技人才,为国防现代化和国民经济建设服务为宗旨。坚持党的基本路线,提倡“双百方针”。刊登内容主要包括惯性系统、组合导航、惯性敏感器、测试方法与设备、工艺与材料、可靠性研究等方面的最新研究成果。为保证刊物质量,依据国家标准和本刊的编排规则,特制定本简则。

简介：O433.42001031602椭偏光谱及在离子注入硅损伤研究中的应用=SpectroscopicellipsometryanditsapplicationstostudyofradiationdamageformedbyionimplantationintoSi[刊,中]/阳生红,莫党(中山大学物理系.广东,广州(510275))∥半导体技术.-2000,25(5).-33-37介绍了椭圆偏振光谱的原理,给出了椭偏仪在离子

简介：TN2412006064910液体物质中的空化现象实验研究=Experimentalresearchoncavitationbubbleinwater[刊,中]/赵瑞(南京理工大学应用物理系．江苏,南京(210094)),徐荣青…//光电子·激光．—2006．17(5)．—629—633采用自行研制的光偏转测试系统对强激光诱导液体物质的空化现象进行了实验研究,实验得到了激光等离子体冲击波传播规律和空泡的动力学特性。结果表明,激光等离子体冲击波在其传播过程中迅速衰减为声波；激光空泡的最大泡径随脉动次数增加依次减小,而收缩的最小泡径则由腔内含气量决定。图7参11(严寒)

简介：

简介：TN2092003053778多光子技术及其应用研究进展=Progressinmulti-photonexcitationanditsapplication[刊,中]//徐慧(清华大学物理系.北京(100084)),张春阳…//分析科学学报.-2002,18(5).-424-428综述了多光子技术的基本原理及其在生命科学、化学、物理和材料科学领域的应用研究进展。参50(张志升)TN2092003053779光电子技术及其进展=Optoelectronictechnologyandits

简介：抗氧剂是重要的聚合物稳定化助剂，文章全面而系统地综述了聚合物抗氧剂工业的理论研究进展和技术开发趋势，进而归纳了近十年来国内外抗氧剂品种的主要结构和应用特征，旨在推动国内抗氧剂工业的技术进步。

简介：TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限

简介：

简介：介绍了当前高功率微波（highpowermicrowave,HPM）能量合成和功率合成的研究进展,并思考了下一步可能的发展方向。能量合成的关键在于HPM合成器,基于过模圆波导TM01模式滤波器的HPM合成器,能实现两路微波信号的同极化通道合路,并有效提高合成器的功率容量;在此基础上形成的滤波器及合成器网络,能够实现HPM多波段、多频率工作,或产生拍波。功率合成的关键在于对单个HPM微波源的频率和相位的控制。基于小信号相位牵引的新方法,实现了GW量级的HPM相位控制,注入功率比接近-43dB;同时,结合强流电子束加速器的同步控制、大功率固态注入源及相控阵天线等关键技术的发展,这些研究可为HPM源空间功率合成技术奠定基础。

简介：根据闪电的电磁脉冲辐射(LEMP)对微电子设备的干扰及损坏,指出现代防雷是一个强电系统防雷与弱电系统防雷并重的多维防护系统工程,必须采用多层防护与多类防护措施相结合的综合防护方法；详细阐述了外部、内部防雷措施和过电压保护的实现及实施注意事项。最后,讨论了本台防雷改造情况。

简介：TB853．12006065266可见光CCD摄像机高灵敏度设计=DesignofvisiblelightCCDcameraswithhighsensitivity[刊,中]/李凤苓(重庆光电技术研究所．重庆(400060)),周旭东…//半导体光电．—2006．27(3)．—346-348介绍了一种可见光CCD摄像机的设计,就如何保证高灵敏度和降低噪声进行了探讨。图6参4(严寒)TB853．212006065267X光条纹相机时间性能标定=Temporalcharacteristiccali-brationforX-raystreakcameras[会,中]/黄翼翔(中物院

简介：提出LIGA-EDM复合技术技术，即采用LIGA技术制备工具电极的微细电火花加工技术，通过同步辐射尝试光刻得到的胶结构厚度达2mm深宽比约为100，使用电铸技术得到厚度达1mm的铜工县电极，利用该电极进行微细电火花加工实验，在不锈钢上加工出异形小孔阵列．