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衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜的影响

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摘要摘要采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为500℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长。

DOI pj0lpq90jy/4187051

作者王开平

机构地区（大连东软信息学院）

出处《知识-力量》 2019年6期

关键词 ZnO薄膜射频磁控溅射衬底温度

分类 [文化科学][]

出版日期 2019年06月16日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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ZnO薄膜射频磁控溅射衬底温度

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