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ULSI硅衬底片清洗技术的分析研究

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摘要本文阐述了ULSI硅衬底片清洗的重要性,介绍了目前世界上采用的各种清洗方法(湿法、干法、超声、激光等)的概况,并通过理论分析及清洗实验研究找出适用于工业规模应用的硅片清洗液和清洗技术.

DOI lpd5ro247x/11495

作者檀柏梅;刘玉岭;李薇薇;张楷亮

机构地区不详

出处《洗净技术》 2003年2期

关键词 ULSI 衬底单晶片清洗方法表面活性剂兆声清洗

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2003年02月12日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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