简介：集成电路工业从一开始就在使用离子注入技术。如果不利用离子注入的固有的精确性就很难制造极大规模集成电路（VLSI）。特别是离子注入可精确地调整MOSFET的阈值电压。离子注入有三大优点：能达到晶片表面上掺杂剂均匀分布、可精确控制掺杂剂的深度及其分布、可精确控制掺杂剂密度。这些优点催生了所谓“掺杂剂分布工程”，它对早期CMOS的研制成功是一个关键因素。如果没有离子注入就不会有CMOS工艺的快速发展也就不会对我们的生活产生如此深刻的影响。

简介：1064nm，532nm有在涂层和底层之间的SiO2的缓冲区层的加倍频率的antireflection(AR)涂层被电子横梁蒸发技术在锂triborate(LiB3O5或LBO)的底层上制作晶体。样品的剩余反射分别地在1064nm和532nm是0.07%和0.11%。粘附和样品的导致激光的损坏阀值(LIDT)比200mN和18.6J/cm2大。粘附的加强的机制和SiO2的缓冲区层的LIDT被考虑完整的塑料缩进讨论并且砍一部plated电影的理论，和分裂分别地由热吃惊应力导致了。

简介：利用高k／金属栅工艺的优势，IBM联盟管理者称：目前用户已可得到28nm监测工具。工BM副总裁指出，有些公司可能利用多晶氧化氮栅堆栈直接由45／40nm工艺代跨越到利用高k的32／28nm工艺代。有的消费者计划一次性的由32nm“缩小”到28nm，而另一些消费者则打算由目前的65nm和45nm工艺代直接连向28nm。

简介：据报道，东丽公司于2013年1月29宣布，开发出了直径为150nm的世界最细的纳米纤维。该公司利用基于超微细聚合物流控制的精密复合纺丝技术等，使直径较此前最细的300nm直径纤维缩小了一半，可在制造半导体及液晶面板的无尘室内用于空气滤网用途。

简介：软X射线短波段区域（1～10nm）高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义。该波段要求镀膜过程中能减小界面扩散，实现膜厚控制，从而严格限制了制备技术的应用。介绍了软X射线短波段多层膜的发展现状和制备技术，主要包括蒸发沉积、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延，对这些方法进行了比较并提出了今后的研究方向。

简介：介绍了CMOS技术发展到亚100nm所面临的挑战。针对尺寸量子化效应。建立了NMOSFET的反型层电子量子化模型，分析了反型层量子化效应对NMOSFET器件参数包括有效栅氧厚度、阈值电压等的影响。得出结论，反型层量子化效应致使反型层电子分布偏离表面。造成有效栅氧厚度的增加，阈值电压的波动达到约10％。

简介：英特尔公司日前宣布32nm芯片近日开始大批量生产，这一声明标忐着32nm技术芯片进入成熟实用阶段，英特尔也借此稳固其在半导体行业中的地位。

简介：华东理工大学研究人员利用自主搭建的多通道光谱仪器观测到单个纳米粒子的光学信号，并通过将单粒子光谱技术与多种调控手段相结合，成功在线监测到单个金、银、铜纳米粒子的生长过程，同时将其应用于生物分子的实时追踪。相关成果已被德国《应用化学》杂志以“热门文章”接收，将在2012年首期杂志以内封面形式发表。

简介：

简介：美国肯塔基大学药学院教授郭培宣（PeixuanGuo）研究组公布了他们在“分子马达”领域的新成果。美国化学会《ACS纳米》在线杂志刊登了他们的实验成果。“‘公转’革命解决了一个35年来的难题，我们知道了病毒如何包裹DNA进行运动的机制，”论文称。

简介：阳离子高分子通过静电相互作用与带负电荷的DNA分子形成聚电解质复合物并介导DNA在体外、体内转染细胞是重要的非病毒基因治疗方法。阳离子高分子基因治疗在体内应用主要是通过注射(静脉注射、肌肉注射等)和植入(植入表面负载聚阳离子/DNA复合物的材料)等方法实现的。阳离子高分子基因载体安全、易于制备,在过去十多年发展迅速,已成为生物医用高分子的前沿领域和研究热点。报道了对生物可降解高分子基因载体进行的系统研究,包括以季戊四醇、肌醇、间苯三甲酸、1,4,7,10-四氮杂十二烷为核的聚酰胺-胺树形高分子和聚磷酰胺介导的体外、体内基因传递,研究了聚阳离子基因载体的分子结构与基因传递效率之间的关系,最好的转染效率与聚乙烯亚胺相当,但比聚乙烯亚胺的毒性低得多。半乳糖-聚酰胺胺树形高分子结合体与荧光素酶基因的复合物通过受体介导胞吞作用靶向基因传递到HepG2细胞系,提高肝细胞的转染效率。半乳糖-聚磷酰胺结合体与荧光素酶基因的复合物通过门静脉和胆管注射能大大提高荧光素酶基因在小鼠和大鼠肝脏中的表达。利用主链重复单元含硫硫键的新型聚阳离子与质粒DNA通过静电相互作用制备聚电解质多层膜,利用硫硫键在还原条件下还原裂解的特点,成功实现...

简介：对纳米材料制备过程中的激光方法——激光诱导化学气相沉积法(LICVD)、激光高温烧灼法、激光加热蒸发法、激光分子束外延(LMBE)、激光诱导液-固界面法、激光气相合成法、飞秒激光法、激光聚集原子沉积法和激光脉冲沉积法(PLD)——作了简要介绍，并就一些制备方法的优缺点进行了比较。

简介：激光雕刻陶瓷网纹辊是金属镀铬辊的优良替代品，广泛用于印刷，涂布，上光等，具有定量传墨，寿命长，墨层均匀等镀铬辊不可以比拟的优点。

简介：一般情况下我们都利用几何模型方法来建立激光效果，在这里采用的是一种不同的甚至可以说聪明的方法——仅仅利用一束光线，我们就可以模拟出激光效果。下面要介绍的就是在3DsMax场景中创建真实激光效果的基本历程(R2.5版本中)。

简介：据媒体近日报道，瑞典皇家工学院科学家发现了一种新式的氮氧化合物分子，这种名为“Trinitramid”的氮氧化合物有望成为未来火箭燃料家族的新成员，与目前最好的火箭燃料相比，新燃料的效率将提高20％～30％。有关研究成果发表在德国《应用化学》杂志上。

简介：文章简明阐述了近年来分子磁性材料研究中的一些相关问题，对其研究的发展历史进行了回顾。介绍了当前分子磁性材料理论研究中定性和定量两方面的进展。同时对分子磁性材料实验研究中的热点问题进行了介绍，并展望了分子磁性材料潜在的应用前景。

简介：建立在众所周知的原理基础上的热激光切割技术（thermallaserseparation,TLS）用于切割脆性材料。应用范围包括切割显示器玻璃（包括层状玻璃）、浮法玻璃生产线上的玻璃边缘、氧化铝陶瓷等。与其他的激光技术比较，用TLS取代机械法切割晶圆有诸多优点。本文论述了TLS在切割半导体硅片领域的应用。

简介：近年来绿色节能成为发展的主题,当今世界不断寻求更高效节能的光源作为传统照明光源的替代品,LED光源是最佳的选择,随之而来的是近年来高亮度LED在照明领域的应用持续而迅速的扩大。LED制造中激光晶圆划片工艺的引入,使得LED在手机、电视以及触摸屏等LCD背光照明大量使用。

简介：据报道，目前台积电的7nm布局最积极，近期台积电更是转变了7nm制程设备的采购策略，将应用材料（AppliedMaterials）、科林研发（LAM）、东京威力科创（TEL）、日立先端（Hitach）、中微半导体5大设备商均纳入采购名单，致力平衡7nm制程设备商生态价格。

简介：