软X射线短波段区域（1～10nm）高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义。该波段要求镀膜过程中能减小界面扩散，实现膜厚控制，从而严格限制了制备技术的应用。介绍了软X射线短波段多层膜的发展现状和制备技术，主要包括蒸发沉积、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延，对这些方法进行了比较并提出了今后的研究方向。
材料导报：纳米与新材料专辑
2009年1期
