Influence of Deposition Pressure on Properties of ZnO:Al Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering

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摘要 透明的传导性的铝做了锌氧化物(ZnO:艾尔,偶氮)电影被rf(收音机频率)在玻璃底层上准备磁控管从ZnO劈啪作响:3wt%艾尔2O3陶器的目标。氩气体压力的效果(PAr)与小变化被调查在这些电影的电、光、结构的性质上理解影响。使用X光检查衍射(XRD)并且扫描电子显微镜学(SEM)的结构的考试证明ZnO:薄电影是的艾尔(002)面向。抵抗力价值被四点的探查与5.76穩摥甠楳杮愠?灯楴業敺?票牤瑯敨浲污洠瑥潨?倠牵?桰獡?景?㈱?眠獡朠瑯愠?的最低抵抗力测量?潣灭牡瑡癩汥?潬敷?整灭牥瑡牵?挨愮??‰??楳瑳?景漠敮?睴?琠牨敥?牯映畯?慬敹獲漠?敭慴?晲捡獥瀠慬散?湩琠敨渠慥?楦汥?敲楧湯漠??業牣獯牴灩瀠瑡档愠瑮湥慮?桔?湡整湮?慲潤敭猠獹整?慧湩椠?浩牰癯摥戠????潣灭牡摥琠?桴?慰'?湡整湮?污湯?愠摮琠敨爠摡慩楴湯瀠瑡整湲栠污?吗潰敷?敢浡楷瑤?獩爠摥'转棳_??L潳灲楴湯瀠慥獫眠牥?獡楳湧?敧愠敲?吠敨栠杩汨?晥楦楣湥?L潳灲楴湯漠?
机构地区 不详
出版日期 2016年06月16日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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