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7 个结果
  • 简介:对磁控溅射法在YBa2Cu3O7-δ缓冲及SrTiO3(001)衬底上生长的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜材料,应用X射线散射倒空间作图法研究了薄膜在垂直(a⊥)和平行(a||)于表面方向的晶格常数与其厚度的关系。研究结果表明,随着PZT厚度的增加,a⊥增加,而a||减小。这种晶格常数的变化,不能用一般的薄膜弹性畸变来解释,我们归结为晶体的尺寸效应起了很大的作用。X射线衍射的测量结果表明,随着PZT厚度的增加,其晶粒尺寸也增加。

  • 标签: PZT薄膜 晶格常数 厚度 铁电薄膜 X射线衍射
  • 简介:用X射线摇摆曲线和掠入射衍射、透射电镜、原子力显微镜等实验技术研究了MBE方法生长的Si缓冲生长温度对SiGe/Si异质结结构的影响。结果表明,所研究的SiGe外延晶格发生完全弛豫,但表面粗糙度和界面失配位错随Si缓冲的生长温度而变化,最佳生长温度为450℃;缓冲晶格应变是达到高质量SiGe外延的主要原因。

  • 标签: Si缓冲层 生长 温度 SiGe外延层结构 X射线 晶格
  • 简介:古陶瓷的元素谱分析是古陶瓷研究中的一项重要内容,它对古陶瓷的产地鉴定及真伪鉴别起看十分重要的作用。我们选用江西丰城洪州窑从东汉晚期直到晚唐五代8个考古文化期共32个古碎片,用SRXRF对其胎进行了多点分析和线状区域扫描分析,并对釉面进行了区域扫描分析。初步确定了洪州窑古的化学组成的产地特征为:胎釉中Fe,Tt等着色元素含量较高,釉中钙高钾低,属高钙釉。

  • 标签: 江西 洪州窑古瓷 古陶瓷 元素谱 产地特征 SRXRF
  • 简介:利用同步辐射对合成金刚石晶体中面状缺陷进行了形貌学研究。在晶体中观察到多个错和一个由两个错三角形组成的错四面体。计算了错及错四面体各个边界的方向指数,确定了各个错的面指数。根据错的消像规律.确定了各个错的位移矢量。除一个错为Frank型简单层错外。其余错皆为既具有Frank位移,又具有Shockley位移的复合型错。分析了错的形成机理。错尺寸火小在0.68-1.15mm之间,是前人在合成及天然金刚石中从未见到的。

  • 标签: 合成金刚石晶体 层错 同步辐射 方向指数 位移 面状缺陷
  • 简介:本文采用多功能四圆X射线衍射仪测绘出立方相GaN/GaAs(001)外延的极图和倒易空间mapping,研究了六角相GaN和立方相微孪晶的取向、晶粒形状和极性等特征。结果表明外延中片状六角相与立方相之间的取向关系为:(111)//(0001)、<112>//<1010>。由于(111)Ga面的外延速度远高于{111}N面,导致较多六角相和立方相微孪晶在[110]或[110]方向上的(111)Ga面和(111)Ga面上形成,而在[110]或[110]方向上六角相和立方相微孪晶含量较低。外延中立方相微孪晶的含量明显低于六角相,表明六角相的形成可以更有效的释放局部应力集中。

  • 标签: 立方相 GAN 外延层 X射线四圆衍射分析 氮化镓 外延生长
  • 简介:利用双晶单色器和精密二圆衍射仪,在北京同步辐射装置建立了同步辐射X射线驻波实验技术,并用这一实验技术结合X射线衍射方法,研究了Si晶体中外延生长的超薄Ge原子的微结构。实验结果表明,由于Ge原子的偏析,在Si晶体样品中形成了共格生长的GexSi1-x合金,浓度平均值为X=0.13;650℃退火会使Ge原子向表面扩散,Si晶体中的合金消失,在晶体表面形成接近纯Ge的单原子

  • 标签: 同步辐射 X射线驻波实验技术 半导体超薄异质外延层 硅晶体 外延生长 超薄锗厚子层