简介:摘要:退火是带钢冷轧生产的主要工艺手段,连续退火炉是辅助退火工艺的设备,其主要用途是金属热处理,而设备的功能参数直接影响到金属加工效果,所以本文围绕连续退火炉进行深入研究,掌握连续退火炉工艺技术情况,考虑退火工艺生产应用需求,分析连续退火炉温度控制系统,按照生产要求对生产各阶段进行温度把控,以此发挥连续退火炉在生产中的功能作用,稳定连续退火炉各阶段的温度,将温度控制在合理区间中,由此提升退火工艺生产效果。以下将围绕连续退火炉工艺技术进行细致分析,提出连续退火炉温度控制系统的关键要素,介绍硬件配置、连续退火炉与辐射管加热区在炉温控制方面的内容。
简介:摘要采用快速热退火方法,研究了Mo-4H-SiC在不同退火温度(600℃-1200℃)条件下的接触特性。通过对样品的I-V特性进行分析,结果表明在经过退火之后,势垒呈现上升趋势,达到1200℃时出现双势垒。对样品进行变温处理之后,测试结果表明1000℃样品有着较高的势垒以及良好的热稳定性,在150℃环境温度下反向漏电流保持在10-8cm-2数量级,在升温过程中几乎不出现变化。通过对有效理查德森常数的计算,使用高斯分布函数对理查德森常数进行优化计算,可以看出虽然退火有助于形成高势垒,但是在一定程度上也导致了样品的横向不均匀的加重。但是这代表肖特基接触在高温情况下的应用仍存在一定改善空间,而S1000样品也为高温情况下肖特基接触的应用提供了一定参考价值
简介:摘要:立式连续退火炉是板带生产企业中重要的装备,其的温度均衡连续性会直接影响到冷轧板带的质量以及成本。文章主要是分析了立式连续退火炉的温度控制系统,在此基础上对连续退火炉的温度控制系统进行了讲解,望能为有关人员提供到一定的帮助和参考。
简介:Noveltopologyforparallelconnectionofsoft-switchinghigh-powerhigh-frequencyinverters.ElectricalandstructuralcharacterizationoftheinterfaceofwaferbondedInP/Si.ModelingandcontrolforrapidthermalannealinRTP.MINIMISATIONOFPSURFACESEGREGATIONDURINGEPITAXIALSILICONGROWTHFORTHEFABRICATIONOFASILICON-BASEDQUANTUMCOMPUTER.Electricalandstructuralinvestigationofbondedsiliconinterfaces
简介:[篇名]MechanismofthesuppressionofZrsilicideformationinpoly-Si/ZrON/ZrSiON/Sistructure,[篇名]MICROSTRUCTUREANDMECHANICALPROPERTIESOFINTERNALLYOXIDIZEDAg/1.12AT.%Mg,[篇名]Improvingrecrystallizationresistanceinwroughtaluminumalloyswithscandiumaddition,[篇名]Interactionofinterface-trapslocatedatvarioussitesinMOSFETsunderstress,[篇名]ActivationofMgacceptorsinGaN:Mgmonitoredbyelectronparamagneticresonancespectroscopy
简介:[篇名]OpticalandElectricalGasSensingPropertiesofIn{sub}xO{sub}yN{sub}zFilms,[篇名]InfluenceoftheannealingprocessonpropertiesofCu/BCN/p-Sistructure,[篇名]LASER-ULTRASONICCHARACTERIZATIONOFTHEANNEALINGPROCESSOFLOW-CARBONSTEEL,[篇名]LongLength{110}<110>TexturedAgTapesforBiaxiallyOrientedYBa{sub}2Cu{sub}30{sub}7CoatedConductors,[篇名]Lowtemperaturecrystallizationofgermaniumonplasticbyexternallyappliedcompressivestress,[篇名]Pb-FreeBumpingbyAlloyingElectroplatedMetalStacks