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IBAD氮化钛中N/Ti对膜层性能影响研究

作者：徐龙堂;谭俊;朱绍华
学科：军事 > 军事理论
创建时间：1997-01-11
出处：《装甲兵工程学院学报》 1997年第1期

简介：研究了离子束辅助沉积(IBAD)制备氮化钛(TiN)重要参数氮钛到达比(N/Ti)对膜层性能的影响,并且采用俄歇谱分析(AES)、光电子谱分析(XPS)、X射线衍射分析(XRD)对膜层进行了相组成与成分分析,摸索了N/Ti对膜层的影响规律.
标签：离子束辅助沉积(IBAD) 氮化钛(TiN)

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辅助镀膜离子源及立方氮化硼薄膜的制备研究

简介：为选出合适的辅助离子源进行沉积制备c-BN薄膜,通过对高能和低能辅助镀膜离子源的重要性能进行比较研究之后,在单晶Si基体进行应用制备立方氮化硼薄膜,用红外光谱(FTIR)及光电子能谱(XPS)分析技术,对不同辅助离子源制备沉积的薄膜,进行比较表征,得出结论:低能辅助镀膜离子源,比高能辅助镀膜离子源更适用于制备立方氮化硼薄膜.
标签：离子源离子束辅助沉积立方氮化硼薄膜

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