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  • 简介:研究了一种新型化学工艺,使用新型络合型盐作为源,采用L16(45)的正交试验和单一因素实验,研究得到了性能最佳的液配方及工艺条件。镀层性能测试结果表明,所制备的镍钯金镀层镀层结合力强,金属光泽性高,具有良好的耐腐蚀性和可焊性。

  • 标签: 正交试验 化学镀钯 镀层性能
  • 简介:3DStackedPackagesWithBumplessInterconnectTechnology;?AActivebrazingalloyproducedbyelectrolessplatingtechnique;Additionaleffectofelectrolessplatingfihn(dampingcapacityimprovelnent;Adsorbatesformedonnon-conductingsubstratesbytwo-stepcatalyzationpretreatmentforelectrolessplating;DepositionofThrough-HoleMetalFihnOllGlasswithElectrolessPlating

  • 标签: 化学镀 铜焊合金 接触反应 薄膜沉降
  • 简介:SY509-3-99[篇名]Effectofin-situelectrolessplatingonfrictionandwearofmetals;SY509-3-100[篇名]Effectofin-situelectroplatingonfriction;SY509-3-101[篇名]Effectoflasertreatmentonelectroless-platedNi-P-SiCcompositecoatings……

  • 标签: 化学镀 金属腐蚀防护 电镀处理 表面摩擦
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  • 简介:1.化学镍/金发展的背景印制电路板,无论是单面、双面或多层板都是用于电子元器件连接为主的互连件。它是通过自身提供的线路和焊接部位,焊接上各种元器件,例如电阻、电容、半导体集成芯片,集成电路模块之后成为具有一定功能的电子部件。因此,PCB上必须有导通孔,焊垫或连接盘。早先的可焊性镀层是用图形电镀法产生的Sn/Pb抗蚀镀层,经过热熔后供给用户去装配元器件。

  • 标签: 化学镀镍 浸金 电子元器件 可焊性镀层 焊接部位 集成芯片
  • 简介:1前言SnPB合金镀层已广泛地应用于电子元器件和印制板等电子业领域,用作抗蚀行保护和可焊性涂层。随着印制板图形和电子元器件的微细化,作为SnPb合金镀覆方法的电镀SnPb法和浸渍熔融SaPb法存在着SnPb涂层厚度不均匀,容易造成短路和热变形等缺点,已远远不能适用。与此对比,化学SnPb合金则可以弥补电镀法和浸渍法的不足,近年来的化学SnPb合金的应用日趋广泛。本文就化学PbSn合金

  • 标签: 化学镀 合金溶液 SnPb合金 合金镀层 甲烷磺酸 还原剂
  • 简介:本文概述了含有Sn^2+盐、合金成份金属可溶性盐、酸、络合剂和还原剂等组成的Sn合金化学液,可以获得附着性、耐蚀性和平滑致密性优良的无Pb和Sn合金镀层,适用于PCB等电子部品的化学

  • 标签: 化学镀 锡合金 印刷电路板 PB
  • 简介:摘要本文介绍了化学镍技术的应用领域和发展趋势,并对我国镍技术的发展进行了展望。

  • 标签: 化学镀镍 应用 发展
  • 简介:化学镍因其镀层非常均匀、液分散能力好、耐蚀性和耐磨性高以及一些特殊的物理化学性能而成为发展最快的表面镀覆工艺。专家闫洪拟通过对化学镍层的含磷量、组织结构、钝化膜、孔隙率和后处理工艺等五方面进行讨论,从而得到化学镍的耐蚀机理,使非晶态Ni-P合金化学层良好耐蚀性能在工业生产中发挥更大的作用。

  • 标签: 化学镀镍层 机理研究 耐腐蚀 物理化学性能 NI-P合金 耐蚀性能
  • 简介:介绍一种化学Ni-P合金层的退溶液配方,对Ni-P合金层退液对金属基体的腐蚀量进行了测定,并对退反应的机理进行了初步的探讨.

  • 标签: 化学镀NI-P合金 腐蚀量 缓蚀剂
  • 简介:铝上化学Ni-P合金层由于硬度高,可焊性良好并具有扩散阻挡特性和电磁屏蔽功能等优异性能,在电子工业中特别适用电子元件镀覆或作电镀金、银的中间镀层。专家黄昌明、陈天军等对采用中性盐雾腐蚀试验方法对铝上化学镍层的耐蚀性进行了研究,重点比较和讨论了镀层厚度和镀层含磷量,并对镀覆工艺对化学Ni-P合金层耐蚀性的影响等作了详细的阐述。

  • 标签: 化学镀镍工艺 耐腐蚀性 镀层 稳定性
  • 简介:本文讨论了影响化学镍溶液稳定性的主要因素,提出了提高液稳定性和延长液使用寿命的有效途径。

  • 标签: 化学镀镍 稳定性 使用寿命
  • 简介:摘要:本文研究了柠檬酸、乙酸、丁二酸、苹果酸、乳酸、丙酸作为络合剂时对低磷化学镍的影响,以沉积速率、镀层磷含量、孔隙率及硬度为评价指标。液的基础配方为:硫酸镍 29 g/L,次磷酸钠 25 g/L,醋酸钠 15 g/L,络合剂,十二烷基硫酸钠 6 mg/L,硫脲1.5mg/L,时间1 h。结果表明,乳酸和丙酸单独作为络合剂时可得到低磷镀层,其余络合剂体系下所得镀层磷含量大于5%,且镀层的孔隙率较大,硬度低。当采用乳酸-丙酸进行复配时可获得镀层磷含量为3.87%,沉积速率高达16.31μm/h,镀层孔隙率低至0.70个/cm2,态硬度达294.6 HV。

  • 标签: 乳酸丙酸体系 低磷化学镀 磷含量 硬度
  • 简介:介绍采用化学方式镍的原理和方法,其工艺简单、操作方便、无毒、无污染,可用来对活塞杆尾部进行防腐蚀保护。

  • 标签: 减速顶 停车顶 化学镀 镀镍 活塞杆
  • 简介:本文通过对碳钢化学镍层结构及性能进行综合分析,避免了传统湿化学法的操作繁琐、周期长等不足,利用X射线荧光光谱仪,采用单标FP法,通过选择最佳的2θ角及PHD、采用基体校正等手段,建立碳钢化学镍层中高磷含量的快速荧光分析方法。该方法能够快速、准确地分析出镍层中的各种成分,完全满足化学分析的要求,保证了镍层的质量。

  • 标签: X射线光谱分析 镀镍层 高磷
  • 简介:0前言化学镍磷是不用外来电流,借氧化还原作用在金属制件的表面上沉积一层Ni-P的方法。化学镍磷合金按溶液的pH值可以分为酸性和碱性两种。酸性化学Ni-P工艺是目前应用最为广泛的化学镍工艺,化学镍工艺因为镀层均匀、亮度好、耐蚀性及耐磨性优良而被广泛应用于多个领域。酸性化学镍,液PH在4.3 ̄5.2,采用次亚磷酸钠作为还原剂,除了镍离子被还原以外,次磷酸根本身也会被吸附氢原子还原为磷,因而形成Ni-P合金镀层。

  • 标签: 化学镀镍磷合金 酸性化学镀镍 合金工艺 氧化还原作用 化学镀镍工艺 化学镀NI