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  • 简介:X射线干涉测量技术是以非常稳定的亚纳米量级的硅单晶的晶格作为基本长度单位,以建立纳米级长度基准,从而实现纳米级精度的测量、校验等功能。由于其在纳米测量范围内的特殊优越性,因而近年来该技术得到了迅速发展。该技术的前提是X射线干涉技术的实现。根据X射线干涉的特点,并考虑到X射线的吸收特性,用单晶硅制出了LLL型X射线干涉器件。在北京同步辐射实验室(BSRL)4W1A束线上选择17.5Kev能量的同步辐射进行了X射线干涉实验,在拍摄的底片上比较清楚地观察到了X射线干涉条纹。

  • 标签: 17.5Kev同步辐射光 干涉技术 X射线干涉测量技术
  • 简介:本文介绍用BEPC的同步做激发源,对所研制的平面晶体位置灵敏谱仪性能进行研究的结果。用LiF(200)晶体,测得TiKα的能量分辨率达14.2eV,好于质子激发的结果(15eV),能清楚地分开不锈钢中CrKβ与MnKα两峰,和可探测一气溶胶样品中Ti的绝对量达10^-9-10^-10g水平。这些数据将为位置灵敏谱仪用同步开展应用提供重要依据。

  • 标签: 同步光 激发源 PSS 平面晶体位置灵敏谱仪
  • 简介:在采用铍材作为慢化剂或反射层的热中子反应堆中,由于^235U裂变产物放出的高能Y光子会与^9Be发生(γ,n)反应,产生光激发缓发中子,即铍中子,会对反应堆的动态特性产生影响.本文选取经典的铍中子分组参数,采用系统程序relap5,研究了铍中子对研究堆瞬态特性的影响.研究表明,铍中子的存在导致反应堆剩余裂变功率增多和持续时间增加,从而提高了余热水平;铍中子的存在使得瞬态中核功率变化滞后,对反应堆安全有一定的影响.

  • 标签: 研究堆 铍反射层 光中子 瞬态
  • 简介:利用同步X透射形貌技术,研究了液封直拉(LEC)、水平布里支曼(HB)、垂直梯度凝固(VGF)三种生长技术制备的Φ2"晶片的位错缺陷。发现LEC晶体中缺陷明显高于HB、VGF晶体,VGF缺陷缺陷最低,HB晶体居于两者之间。结合生长界面温度梯度和杂质掺入水平,讨论了位错分布差异的原因。

  • 标签: 位错 X光形貌 GAAS晶体 半导体 生长工艺 液封直拉
  • 简介:(CO+Cs)/Ru(101^-0)共吸附的体系中,CO分子由于受Cs原子强烈影响,分子轨道发生重新杂化组合。CO分子原来在清洁Ru(101^-0)表面上结合能位于7.5eV处相重叠的5σ和1π轨道对应谱峰分裂为两峰,结合能分别位于6.3和7.8eV处,其中6.3eV处的谱峰来自CO分子1π轨道的一支,它显示出该分子轨道沿衬底<0001>晶向的镜面反对称性。CO分子1π轨道的另一支和5σ轨道在结合能7.8eV处相重叠。

  • 标签: 同步辐射 CO Cs/Ru(101^-0)表面 共吸附 铯/钌 一氧化碳
  • 简介:发电机密封性试验是氢冷式发电机组启机前的一项重要工作。文章以秦山第二核电厂1#、2#机组为例,根据该厂发电机运行现状,结合发电机内部结构,详细分析拖延发电机密封性试验时间的原因,并提出对应解决方案。

  • 标签: 发电机 密封性试验 原因分析 解决方案
  • 简介:本文简要介绍了上海站现场监督员在对秦山第二核电厂进行日常监督中,为了加强对应急柴油发电机组监督,进行系统专项检查的实践情况。

  • 标签: 定期试验 系统专项检查 应急柴油发电机
  • 简介:1.8概率论安全评价方法及今后对安全评价的展望(1)概率论安全评价方法的用途及研究课题目前的安全评价做法是:假设某一设计基准事件(DBE),如果发生了该事件,评价核电站的行为,然后跟判断准则相比较,以判断该核电站是否符合要求,是否安全。这种评价方法是以确定论的方式假定具有安全功能机器设备起作用或不起作用来评价核电站的安全性,对于不起作用的机器设备,依据这些系统及机器设备的不同功能,假设一“单一故障”,不再假设其它的因素。

  • 标签: 确定论 机器设备 概率安全评价 核设施 判断准则 设计基准
  • 简介:利用北京同步辐射小角X散射实验站,我们对超临界流体的抗溶剂过程中,高分子的构象变化进行了初步的研究。实验表明,在不断加入抗溶剂的过程中,高分子链发生了从伸展的无规线团到球形的转变。

  • 标签: 抗溶剂过程 高分子链 尺寸 构象 超临界二氧化碳 聚苯乙烯
  • 简介:西屋核电站标准技术规范具有安全理念清晰、定义准确、条目简单、易于执行以及多年的实践等特点。本文主要阐述西屋核电站标准技术规范与法国的技术规范之间的较大的差异,对该方面的问题提出了一些建议。

  • 标签: 核安全 西屋核电站 标准技术规范 法国 比较研究
  • 简介:介绍了铀矿开采废物的组成,重点分析了铀矿山采矿废物最小化管理技术,并给出了加拿大和法国废物最小化管理的实例。

  • 标签: 铀矿 废物 废物最小化
  • 简介:阐述了LIGA技术的组成及特点。对LIGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了朱理分析。用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以Au为吸收体的X射线光刻掩膜。简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程,并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射X射线光刻,得到了深度为500μm,深宽比达8.3的PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构。给出掩膜和X射线光刻照片。同时,对Au、Ni等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究。

  • 标签: 微马达 LIGA技术 光刻 掩膜 电铸 同步辐射