简介：Pr2Fe14B-La2Fe14B系统被衍射(XRD)，微分扫描热量测定(DSC)和扫描电子显微镜学(SEM)与精力装备了的X光检查粉末调查散X光检查光谱学(版本)。水晶结构参数被完整侧面的Rietveld精炼决定。结果揭示了那所有合金(Pr1-xLax)2Fe14B使Nd2Fe14有空格组P42/mnm的B类型结构并且形成了连续固体在x=0.0之间的解决方案并且1.0。格子参数一，c，单位房间体积V和c/a比率与La集中线性地增加了。由thermogravimetry分析决定了，居里温度(TC),阶段转变温度和融化的温度(Pr1-xLax)2Fe14B在La内容之上线性地减少了。基于DSC大小和X光检查粉末衍射考试的结果，Pr2Fe14B-La2Fe14B系统被建立。

简介：以Zr和B4C等粉末为原料,采用喷涂和反应烧结方法在钼合金表面形成陶瓷涂层,研究反应烧结工艺对涂层表面形貌、相组成和相结构的影响,再通过硅扩散反应形成抗氧化涂层,研究抗氧化涂层对钼合金在1500℃静态抗氧化行为的影响。结果表明：钼合金表面Zr-B4C在1700℃反应烧结2h形成多孔陶瓷结构,烧结产物主要含ZrC及少量的Mo2C和MoB等物相。涂层在1500℃抗氧化寿命达10h以上,1500℃氧化1h,质量增加速率为1.175mg/cm^2。

简介：采用粉末冶金快速热压法制备B4C/Al中子吸收材料，对其进行T6态热处理，通过对材料的密度、硬度与抗弯强度等性能的测试以及材料微观组织、物相组成和弯曲断口形貌的观察与分析，研究成形压力、热压压力与温度以及B4C颗粒含量的影响。结果表明，B4C/Al复合材料的物相组成为Al和B4C；B4C颗粒均匀地镶嵌在基体中，颗粒与基体结合紧密。材料密度随压制压力增加而增大，随B4C含量增加而降低，在热压压力和温度共同作用下，铝合金液充分填充压坯孔隙从而实现高致密。当B4C的质量分数为30%时，在150MPa预成形压力下压制、530℃/10MPa条件下热压后所得B4C/Al复合材料的相对密度最高，达到99.87%，断裂方式为韧性断裂。经T6态热处理后，硬度HB和抗弯强度均提高，分别达到123.49和394.117MPa，断裂方式转变为脆性断裂。

简介：采用Al-5Ti-B变质剂对过共晶Al-18Si合金进行反向变质处理,用光学显微镜观察合金的组织与形貌,研究变质剂加入量、变质温度和冷却速度对初晶硅的尺寸、形态和面积分数以及共晶组织的影响。研究表明：当Al-5Ti-B加入量（质量分数）为0.3%时,变质处理后Al-18Si合金中的初晶硅和共晶硅尺寸明显减小,初晶硅的面积分数减小;与其相比,变质剂加入量增加到0.6%时,初晶硅尺寸变化不明显,但共晶硅进一步细化;随冷却速率降低,变质处理后Al-18Si合金中初晶硅相的数量减少,但Si颗粒尺寸明显增大,并且共晶硅细化;与Al-18Si合金在720℃变质相比,该合金在780℃变质处理时,初晶硅的尺寸增大,但初晶硅的面积分数显著减小;合金在850℃变质处理后初晶硅的尺寸、面积分数都比720℃变质处理后明显减小;随变质温度升高,Al-Si合金中的共晶硅明显细化。

简介：YPO_4phosphorssingle-dopedwithSb~（3＋）orGd~（3＋）andco-dopedwithSb~（3＋）andGd~（3＋）werepreparedbyasolid-statereactionmethod.Thephasepurity,morphology,photoluminescenceexcitationandemissionpropertiesofthepreparedphosphorswereinvestigated.TheresultsshowedthatSb~（3＋）couldsensitizeGd~（3＋）intheco-dopedphosphorswhichmadethephosphorsexcitablebyshort-waveultraviolet（UV）atawavelengthbetween220and260nm.Under253.7nmexcitation,theco-dopedphosphorsY_（1–x–y）PO_4：Sb~（3＋）x,Gd~（3＋）yshowedstrongemissionofGd~（3＋）atawavelengthof312nmwhoseintensitychangedwiththedopingconcentrationsofGd~（3＋）andSb~（3＋）.TheoptimizedY_（0.77）PO_4：Sb~（3＋）0.07,Gd~（3＋）0.16phosphorshowedanintensitycomparabletocommercialLaPO_4：Cephosphor（UVB-315）,makingitapotentialcandidateformercurylow-pressuredischargenarrow-bandUV-Bemittinglamps.