简介:目的对应用无托槽隐形矫治器远移上颌磨牙的效果进行三维测量分析.方法选取7例使用无托槽隐形矫治器远移双侧上颌磨牙的患者,采集治疗前及远移后的模型进行数字化重建,使用Rapidform2006软件对实际及虚拟的阶段模型和治疗前模型进行对比,比较采用不同设计的患者第一磨牙远移量、远移效率、牙齿倾斜度及前牙的变化.结果7例患者中有3例患者双侧远移效率平均为98.25%,90.6%,94.4%,其第二前磨牙、第一第二磨牙颊侧均设计了垂直矩形附件;2例患者,第三磨牙牙胚未拔除,磨牙远移效率平均为66%,78.95%;1例患者未设计第二磨牙附件,磨牙远移效率为50.65%;1例患者第二磨牙牙冠较短,远移效率为47.85%.远移后的磨牙均出现不同程度远中倾斜.戴用Ⅱ类颌间牵引辅助远移磨牙的过程中前牙未出现明显唇倾,但有少量伸长.结论使用隐形矫治技术在远移上颌磨牙阶段,在辅以Ⅱ类颌间牵引时可以较好地保护上前牙支抗,有效实现第一磨牙远移,但存在磨牙倾斜移动问题.附件的设计、牙冠高度及第三磨牙是否存在都可能影响磨牙远移效果.
简介:目的介绍一种新的推磨牙向远中的口内装置并研究其对安氏Ⅱ类上颌第一磨牙的远中倾斜作用以及患者的配合情况。方法选择2名安氏Ⅱ类1分类错牙合畸形的青少年患者作为研究对象。2位受试者的治疗方案都需要推磨牙向远中以纠正错牙合。一名患者拔除上颌第二磨牙以远中移动第一磨牙;另一名患者拔除上颌第三磨牙以远中移动第一磨牙。使用一种新研制的口内装置-Keles滑动杆,推磨牙向远中。Keles滑动杆包括2个双尖牙带环、2个磨牙带环和一个由大面积基托Nance弓组成的支抗单位。该矫治器不需配合使用头帽或弹性牵引,而且患者不可自行摘戴。为了保证磨牙整体远中移动,远中向力的作用点施加于上颌第一磨牙抗力中心的腭侧。使用镍钛螺旋推簧加力,每侧施加200克的力推上颌第一磨牙向远中。结果安氏Ⅱ类上颌磨牙向远中整体移动,双尖牙仅丢失很少支抗,切牙仅发生轻微唇倾;但是,用Nance弓保持的2个月期间,双尖牙在越隔纤维的作用下向远中漂移。结论与其他大多数推磨牙向远中机制不同,这种矫治器可以使上颌第一磨牙向远中整体移动。和拔除第三磨牙相比较,拔除第二磨牙的患者牙齿远中移动更加快速,同时支抗丢失更少。
简介:摆形磨牙远中移动矫治器(Pendulum矫治器)是近年来国际上流行的一种用于Ⅱ类错不拔牙治疗的矫治器。本文详细介绍了一种简单有效的摆形磨牙远中移动矫治器的构造、制作以及临床应用和适应症,并报告了典型病例。
简介:目的探讨上颌磨牙近中颊根第二根管(MB2)的临床检出率以及手术显微镜在提高上颌磨牙临床检出率中的作用。方法选取进行常规根管治疗的63颗上颌第一磨牙,27颗上颌第二磨牙,以及进行显微根管治疗的55颗上颌第一磨牙,20颗上颌第二磨牙,2颗上颌第三磨牙,分别拍摄术前X线片,探查根管,记录根管数目。结果进行常规根管治疗的上颌第一磨牙和上颌第二磨牙,MB2检出率分别为28.6%和3.7%;进行显微根管治疗的上颌第一磨牙和上颌第二磨牙,MB2检出率分别是61.8%和25%;对上颌第一磨牙常规根管治疗和显微根管治疗的MB2临床检出率进行卡方检验,χ2=13.17,差异有统计学意义(P〈0.001);对上颌第二磨牙常规根管治疗和显微根管治疗的MB2临床检出率进行Fisher确切概率值检测,单侧比较值为0.043,差异有统计学意义(P〈0.05)。结论手术显微镜有助于提高上颌磨牙MB2的临床检出率,选择显微根管治疗有助于提升上颌磨牙根管治疗的成功率。
简介:目的探讨数字化成像系统对上颌第一磨牙近中颊根第二根管(MB2)偏移投照的最佳显示效果和拍摄方法.方法选取临床上需要进行上颌第一磨牙牙髓治疗并具有MB2根管特征的患者200例.在分角线投照法的基础上,以转动轴作标记记录水平角度,其中100例从远中至近中每偏移10°进行投照,50例使用不同的曝光时间,50例平移传感器位置进行投照.由两位医师独立阅片,判断牙根区分情况、清晰度及构图完整性.采用SPSS16.0软件包进行配对计数资料的χ2检验.结果在MB与MB2区分率中,远中偏移30°组最高,区分率为94%,显著高于正位组的10%(χ2=84,P=0.000),相同偏移角度远中偏移比近中偏移区分率更高(30°:χ2=18.382,P=0.000;20°:χ2=16.282,P=0.000;10°:χ2=14.019,P=0.000).根尖清晰度方面近中偏移比远中偏移低(30°:χ2=7.848,P=0.005;20°:χ2=12.033,P=0.001;10°:χ2=14.700,P=0.000).当近中偏移超过20°、曝光时间增加1/4时清晰率可达78%,传感器的平移摆放使牙体及根尖区的完整显示率达94%.结论要获得良好的MB2显示效果,X线中心线向远中偏移为首选,若选择向近中偏移则需加大偏移角度和曝光时间,传感器的正确摆放也是直接影响图像质量的关键.
简介:目的探讨无托槽隐形矫治器结合微种植体支抗远移上颌磨牙的效率及在三维方向上的特点,以期为无托槽隐形矫治器的设计提供理论依据。方法选取需进行上颌磨牙远移的安氏Ⅱ类错患者12例,应用无托槽隐形矫治器远中移动上颌磨牙、前磨牙,其中7例结合微种植体牵引尖牙增加支抗,所有患者定期制取阶段研究模型并使用三维扫描仪将模型数字化。通过重叠治疗前与各阶段的三维数字化模型,分析在不同矫治阶段磨牙、前磨牙的远移效率以及在三维方向上的移动特点;对比有无微种植体支抗对磨牙远移效率及前牙支抗的影响。结果微种植体支抗组上颌第二、第一磨牙的远移效率分别为89.20%和83.53%,均比无微种植体支抗组远移效率高,但差异无统计学意义(P〉0.05);上颌磨牙远移会造成切牙轻度唇向及近中移位,其中微种植体支抗牵引尖牙组前牙支抗损失量较小,但差异无统计学意义(P〉0.05)。当上颌第一磨牙开始远移时,第二磨牙的远移效率明显下降(P〈0.05)。上颌磨牙远移过程中磨牙未见明显旋转,有轻度压低和颊移(P〉0.05),而上颌前磨牙远移过程中发生明显颊舌向旋转(P〈0.05)。结论无托槽隐形矫治器可以有效地远移上颌磨牙、前磨牙,前磨牙远移时易发生颊舌向旋转,磨牙在远移过程中有轻度的压低及颊向移位;使用微种植体支抗可以在一定程度上增加磨牙的远移效率、减小前牙支抗丧失。