RF MEMS开关工艺技术研究

(整期优先)网络出版时间:2010-03-13
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RFMEMS开关是用MEMS技术形成的新型电路元件,与传统的半导体开关器件相比具有插入损耗低、隔离度大等优点,将对现有雷达和通信中RF结构产生重大影响。文章介绍了RFMEMS开关的基本工艺流程设计,工艺制作技术的研究。实验解决了种子层技术、聚酰亚胺牺牲层技术、微电镀技术的工艺难题,制作出了RFMEMS开关样品,基本掌握了RFMEMS器件的制作工艺技术。RFMEMS开关样品测试的技术指标为:膜桥高度2um~3um、驱动电压〈30V、频率范围0~40GHz、插入损耗≤1dB、隔离度≥20dB,样品参数性能达到了设计要求。