Influences of Annealing on Residual Stress and Structure of HfO2 Films

(整期优先)网络出版时间:2007-10-20
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HfO2榆树被电子横梁蒸发在BK7玻璃底层上扔。在剩余压力和HfO2电影的结构上在100度C和400度C之间退火的影响被学习。系列,剩余压力和结构的小差别在在更低的温度退火以后被获得,这被发现。在在更高的温度退火以后,系列变到短波长,有增加退火的剩余压力增加温度。同时,雏晶尺寸增加,interplanardistance减少。光系列和剩余应力的变化对应于退火导致的结构的进化。