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Influences of Annealing on Residual Stress and Structure of HfO2 Films

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摘要 HfO2榆树被电子横梁蒸发在BK7玻璃底层上扔。在剩余压力和HfO2电影的结构上在100度C和400度C之间退火的影响被学习。系列，剩余压力和结构的小差别在在更低的温度退火以后被获得，这被发现。在在更高的温度退火以后，系列变到短波长，有增加退火的剩余压力增加温度。同时，雏晶尺寸增加，interplanardistance减少。光系列和剩余应力的变化对应于退火导致的结构的进化。

DOI ojnlo6q5dr/553037

作者申雁鸣;邵淑英;邓震霞;贺洪波;邵建达;范正修

机构地区不详

出处《中国物理快报：英文版》 2007年10期

关键词退火余力氧化铪薄膜

分类 [理学][物理]

出版日期 2007年10月20日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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