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0.4～0.25μm时代的平坦化技术

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摘要从亚微米进人到1/4μm时代,VLSI工艺中的平坦化技术与其它的微细加工技术一起被广泛采用.

DOI o3j7o7pw41/51029

作者

机构地区不详

出处《电子与封装》 2002年5期

关键词化技术平坦化时代平坦

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2002年05月15日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

电子与封装

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