简介：CVD金刚石具有诸多优异性能和特点，在广泛的应用前景。而加工技术是伴随沉积技术的发展而发展起来的。金刚石膜加工技术主要包括切割、成型，研磨抛光和钎焊技术。本文介绍了近年来CVD金刚石加工技术的主要进展，以及有关应用。

简介：瑞典ABB集团服务中心的简·伊斯伯格及其同事成功制备出一种人造金刚石膜，其电学性能和半导体性能不亚于现在常用的半导体硅。

简介：

简介：Kennametal推出了一种新型的、高耐磨性的、有涂覆膜的PCBN，其型号为KB9610，据称在高速加工硬材料时，其切削速度至少能提高20％，因此可获得高的生产效率。

简介：因技术和产品成功应用于神舟五号飞天工程而名躁一时的雷地科技集团再度出击高交会，公司推出的多项与金刚石膜方面有关的项目引起相当的反响和关注。

简介：本文研究了在高温高压条件下金刚石膜的同质外延生长。

简介：专门生产7-11层吹膜系统的加拿大BramptonEngineering（BE）公司推出其最新一代的可堆叠模化吹膜模具。该新型设备商品名为SCD-3，有5-11层可供选择。它可以用在常规的风冷式吹膜以及Aquafrost^TM吹膜系统，具有较高的光学性能，热成型，柔性和抗穿刺性。Aquafrost^TM是一个向下吹制水冷的工艺过程，

简介：本文研究了在高温高压条件下，用FeNi合金做催化剂生长金刚石单晶时金属膜的显微形貌。

简介：实现工业化生产的金刚石膜生产设备由雷地科技集团自行研发制造、并拥有自主知识产权，在生产设备制造方面，最近取得三项世界首创：常温下生产金刚石膜材料；金刚石膜面积达1平方米的生产设备；光学级金刚石膜产品。目前，雷地科技集团拥有的1平方米金刚石膜生产设备是迄今国际上生产金刚石膜材料的最大型设备。

简介：实现工业化生产的金刚石膜生产设备由雷地科技集团自行研发制造、并拥有自主知识产权，在生产设备制造方面，最近取得三项世界首创：常温下生产金刚石膜材料；金刚石膜面积达1平方米的生产设备；光学级金刚石膜产品。目前，雷地科技集团拥有的1平方米金刚石膜生产设备是迄今国际上生产金刚石膜材料的最大型设备。

简介：静压法合成的单晶人造金刚石和人造金刚石微粉，就品种，技术条件，包装，杂质检验，抗压强度测定方法，粒度组成等有关问题，已经建立了国家标准。化学气相沉积法制取的金刚石膜因出现的时间短还未建立起有关标准。化学气相沉积金刚石膜的方法有热丝法，微波法和直流电弧等离子体喷射法三类，本文就直流电弧等离子体喷射化学气相沉积的自支撑人造金刚石膜标准的制定中应考虑到的一些问题提出了我们的看法。

简介：一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气。

简介：一种包括粘结剂的碳化物基质经制备以便在其上接受切削材料如金刚石层。这种基质浸入电解液中，基质用作阳极，从而形成电解抛光的基质表面。然后腐蚀电解抛光的基质表面以基本除去碳化物基质的粘结剂相，