简介:启发诱导是按照人们思想变化的规律,针对犯错误者及有思想问题的人的思想症结,所采取的启蒙思想、脱离盲目、逐步提高思想认识的一种教育方法。它在具体做法上,主要有下列四点:一、提出问题,热心地和被教育者一起弄清挫折与错误所造成的危害,破除对方心理上的“稳态症”。有些同志受挫后尽管情绪上有波动,但对问题没有充分认识,于是表现出一种“稳态症”。即:对后果估计上的“稳态症”———总以为没啥了不起,看不到后果的危害性;思想认识上的“稳态症”———总觉得受挫出错是客观条件造成的,看不到主观方面的失误;行动上的“稳态症”———由于抱着一贯正确的态度,于是出现一种心理定势,思想上无触动,表现上无行动,依然故我。要破除这种稳态,首先应该从弄清后果入手,提出一系列有启发意义的问题,使大家看到危害的严重性,从而打破认识上和心理上的恒定状态。那么,挫折与错误有哪些危害呢?从客观表现看,它往往使人的需求中断,不敢去追求高远的正确目标;它往往造成事业上的损失,使应该达到的目标无限期地推迟了。从主观表现看,由于挫折与错误,有的人又不能正确认识,结果不是推诿于别人,便是自己默言寡语...
简介:采用离子束辅助沉积法(IBAD)在单晶硅片上制备了Ti-Si-N纳米复合薄膜,研究了轰击能量大小对Ti—Si—N纳米复合薄膜生长及力学性能的影响,同时探讨了轰击能量对Ti—Si—N纳米复合薄膜的生长机理的影响。通过原子力显微镜(AFM)、纳米压人仪、光电子能谱(XPS)和X射线衍射分析(XRD)等现代分析技术,对Ti—Si—N纳米复合薄膜的晶粒大小、力学性能、成分与相结构进行综合表征分析。试验结果表明:当轰击能量为700eV时,Ti-Si-N薄膜晶粒直径达到了最小值11nm,此时Ti-Si-N薄膜的硬度相对最高,为33GPa。