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高锰酸钾法去钻污
能力
的研究
作者:
孙忠强
学科:
电子电信
>
微电子学与固体电子学
创建时间:2003-10-20
出处:
《印制电路信息》
2003年第10期
简介:
本丈主要介绍了高锰酸钾法,去钻污剂DM-120A、B(大连太平洋化工有限公司产品)温度、时间、总锰含量、当量浓度的改变对去钻污速率的影响.
标签:
高锰酸钾法
去钻污剂
DM-120A
去钻污速率
印制板
膨松剂
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能力
的研究
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