简介:为明确木霉菌素的光稳定性及其主要降解产物,分别采用可见光、紫外光、纳米氧化钛(TiO2)、纳米氧化钛加紫外光(TiO2-UV)催化降解等技术,测试了木霉菌素的光稳定性;并采用高效液相色谱.质谱(HPLC-MS)分析方法,通过与所合成的木霉菌素衍生物进行对照分析,确定了其主要降解产物,同时分析了其降解后活性降低甚至失活的原因。结果表明:可见光、紫外光和纳米TiO2单独作用时对木霉菌素的降解效果均较差,而Ti02-UV的催化降解效果较好;Ti02-UV催化降解24h后的主要降解产物为木霉菌素衍生物木霉菌醇、12,13-二羟基木霉菌素(M-1)、(12-H,13-OH)。木霉菌素(M-2)及(12-H,13-OH).木霉菌醇(M-3)。研究表明,木霉菌素具有很强的光稳定性,而采用Ti02-UV的方式可催化降解木霉菌素,其降解产物活性降低甚至失活可能是由于木霉菌素抑制蛋白质舍成的关键基团被降解破坏所致。
简介:通过研究苯甲脒类抑制剂与酮醇酸还原异构酶(KARI)对接的结合模式,设计合成了一系列含正庚氧基及正辛氧基苯基的杂环化合物。用核磁共振氢谱、红外光谱、质谱及元素分析对26个目标产物(其中22个是新化合物)的结构进行了表征和确认。初步生物活性测试结果表明,目标化合物大多具有不同程度的水稻KARI酶抑制活性和除草活性,其中化合物9a和9b在200μg/mL浓度下对KARI酶的抑制率分别为65.7%和71.1%,在100μg/mL浓度下对双子叶植物油菜Brassicacampestris的抑制率分别达78.6%和89.0%。
简介:乙酰羟基酸合成酶(AHAS)是磺酰脲类、咪唑啉酮类、三唑嘧啶磺酰胺类及水杨酸类除草剂的作用靶标,大田使用中杂草对这几类除草剂产生抗性的主要因素是AHAS酶的突变.利用大肠杆菌AHASⅡ中464位的色氨酸突变体(W464A、W464F、W464L、W464Y),研究了野生型和突变酶对商品化除草剂(氯嘧磺隆、氯磺隆、咪唑乙烟酸、咪唑喹啉酸)以及烷硫基磺酰脲的敏感性.野生型E.coliAHASⅡ对这些化合物的抑制作用较为敏感,而突变酶对其呈现出不同程度的抗性,使商品化除草剂的抑制常数增加了10~1.0×104倍不等,烷硫基磺酰脲的抑制常数增加幅度较小.烷硫基磺酰脲1a对W464L突变酶的高抑制活性,暗示着发展针对靶酶抗性的除草剂的可能性.