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11 个结果
  • 简介:低温共烧陶瓷LTCC基板是实现小型化、高可靠微波多芯片组件MMCM的一种理想的封装技术,文章对LTCC技术的特点及应用做出了评述,主要介绍国内外LTCC的现状、发展趋势与问题,同时突出强调了LTCC的飞速发展及对微波器件的重要性。

  • 标签: 低温共烧陶瓷 基板 封装
  • 简介:  1前言  1994年开始大批量生产16MDRAM,作为研究开发阶段也是从以64MDRAM为代表的0.4μm器件过渡到以256MDRAM为代表的0.25μm器件.  ……

  • 标签: 时代腐蚀 腐蚀技术
  • 简介:文章讨论了低温共烧陶瓷(LowTemperatureCo—FiredCeramic——LTCC)埋置电感的几何结构,并进行了仿真。分析了结构变化对电感各参数的影响,并通过LTCC工艺流程实现样品的制作。经Agilent4285A及4291B等仪器测试,仿真结果与实测结果完全一致,为等效模型的提取和元件库的建立奠定了基础。

  • 标签: 低温共烧陶瓷 埋置电感 等效电路
  • 简介:摘要:首先阐述了拉断阀的在流体参数介质处理中的实际应用状况,还分析了有关规范中对拉断阀门的拉裂力矩的确定因素与数据来源,并指出了在LNG充装中,GB50156规范的要求也是有待商榷的,还对充装制动软管用的低压拉裂阀门中适用的拉裂力矩进行了分析测算。

  • 标签: LNG 低温 拉断阀 拉断力
  • 简介:在现代比较先进的Bipolar技术中,一般采用多晶发射极结构,这种结构可以提高双极管放大倍数和频率响应特性,因此,这种结构得到广泛的应用。由于这种结构中多晶是直接和硅衬底接触的,多晶腐蚀时要注意过腐蚀量、腐蚀均匀性以及腐蚀后硅衬底的形貌问题。本文主要介绍在这种工艺过程中我们进行的相关实验以及控制方法。最后,简单介绍我们工艺开发的第一批结果。

  • 标签: Bipo1ar技术 多晶发射极 腐蚀 双极CMOS兼容 实验设计
  • 简介:本文主要研究了polysiliconBufferedLocos(PBL)叠层腐蚀后PITING的问题.

  • 标签: PBL PITTING 干法 湿法
  • 简介:<正>日本产业技术综合研究所日前发布消息说,他们通过自行开发的"大容量高纯度臭氧发生装置"生产出浓度高于90%的臭氧,并成功使用这种超高浓度的气体在400摄氏度较低温环境下制造出高品质的硅氧化膜。

  • 标签: 硅氧 臭氧发生装置 日本产业 综合研究所 低温环境 鼻高
  • 简介:文章对传统典型CMOS带隙电压基准源电路分析和总结,重点分析了温度补偿原理。在对传统温度补偿技术改进的基础上,采用低失调电压运算放大器,融合了熔丝烧写调整电压技术,提出了一个温漂低于15×10^-6℃^-1的改进型带隙基准源电路j整个电路采用CSMC0.5μm工艺设计,采用Hspice进行仿真。为补偿工艺偏差,输出电压及输出电压的温漂均可通过铝熔丝烧写来调整。

  • 标签: 带隙基准电路 温度补偿 熔丝
  • 简介:据慧聪化工商务网2003年7月11日讯过去20年,人们利用结构可靠性分析(SRA)方法获得的结果,已经制定了腐蚀性油气管道未来安全运行策略。安全运行策略涵盖了对管道最佳复查间隔期的确定、重新检测额度的规定、管子腐蚀速率的降低,以及在需要对某些管

  • 标签: 结构可靠性 腐蚀性管道 安全运行 油气管道
  • 简介:摘要由于全介质自承式光缆(ADSS)在电力通信系统应用中的独特优点,使ADSS光缆在电力通讯系统中得到了广泛的应用,但在使用过程中,由于电力线产生的电磁场和自然环境的作用,ADSS光缆电腐蚀现象普遍存在,严重时会造成光缆外护套破裂甚至断缆,严重影响了电力通信网的安全甚至威胁着电网的安全。本文针对ADSS光缆的电腐蚀,阐述其原理、影响因素等,提出防范措施。

  • 标签: ADSS光缆电腐蚀影响因素 防范措施
  • 简介:气密封装对采用裸芯片组装而成的多芯片组件至关重要,它可以让组件内部长期保持惰性气氛,降低元器件因湿气造成的环境失效。可伐材料是一种常用的封装材料,在微组装领域应用广泛。为弥补这种材料材料密度大、导热性能差的缺点,结构上选择铝碳化硅材料增强散热效果,同时达到减重的目的。采用低温钎焊工艺进行材料间连接,针对前期研制过程中出现的半密封检漏不合格问题进行分析,开展焊料选择、焊接参数优化工作,使半密封检漏漏率小于5×10-2Pa·cm3/s。

  • 标签: 气密封装 低温钎焊工艺 焊接参数