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  • 简介:随着电子产品的高密度化及小型化,锡铅作为可焊性涂层其涂覆方法已由电镀锡铅、热风整平向化学镀方向发展。化学镀锡铅通常采用氯化物型,氟化物型溶液,由于氯离子对基板具有腐蚀性,氟离子污染环境等问题,近年来研究了甲烷磺酸型化学镀锡铅。本文介绍甲烷磺酸型化学镀锡铅溶液各种添加剂的影响,其中包括能

  • 标签: 甲烷磺酸 阳离子表面活性剂 镀锡铅 防氧化剂 添加剂 沉积量
  • 简介:在合成碳丙脱碳系统设备内,极易生成硫垢,从而影响设备的正常运行.本文针对硫垢,详细叙述了物理清除硫垢和化学清洗硫垢的工艺方法及优缺点,进一步证明采用化学清洗方法除硫垢具有实用性强、应用范围广、易操作等优点.

  • 标签: 合成氨 碳丙脱碳系统 硫垢 化学清洗 物理清除
  • 简介:我国在二十世纪七十年代末八十年代初,开始从国外引进了大量生产线,其中电子生产线比较多。随之配套引进的氟烃清洗技术和设备,也开始在我国推广使用。当时,氟烃清洗是国际上广泛使用的电子清洗技术。电子线路板上使用氟烃清洗比较早,使用厂家很多,使用量也比较大,对提高我国电子产品的清洁度和可靠性,发挥了重要作用。但进入二十世纪八十年代后期,国际上为保护臭氧层制订了《蒙特利尔议定书》,决定对氟

  • 标签: 氟氯烃 中国 厂家 国际 电子产品 引进
  • 简介:氢硅(SiHCl3)作为硅外延片的关键原材料,其纯度直接影响着硅外延层的性能。一般三氢硅纯度的测试方法有两种,除采用化学分析方法测试外,通常用生长不掺杂外延层(本征外延层)的方法来确定。即采取测量三氢硅生长后的硅外延本征电阻率的方法来衡量其纯度。而影响硅外延本征电阻率的主要因素为系统的自掺杂,增加硅外延的生长时间可以有效抑制系统自掺杂,但无限制的增加生长时间必然导致生产成本的增加。文中通过实验数据,确定了一个合理的硅外延本征生长工艺过程,从而达到了评价三氢硅纯度的目的。

  • 标签: 三氯氢硅 纯度 本征电阻率
  • 简介:日前,2018世界人工智能大会(WAIC)在上海拉开帷幕。作为在嵌入式人工智能领域有着核心技术能力的人工智能创业企业,地平线携地平线征程、旭日处理器、Matrix自动驾驶计算平台、以及基于AI芯片技术的驾驶员行为监控系统(DMS)等亮相大会的智能核芯展区。

  • 标签: 人工智能 芯片技术 地平线 世界 MATRIX 驾驶员行为
  • 简介:前言合成生产中的合成塔内件换热器是生产工艺的十分重要的设备,由于该设备结构和工艺条件的特殊性,换热器的管间工艺污垢沉积.不仅使其换热效率大大下降,而且结垢严重时往往造成被迫停车检修.有的甚至导致设备报废.

  • 标签: 化学清洗 合成塔热交换器 氨合成塔