简介：建立了掺杂硒碳糊电极同时测定铜和铋的微分电位溶出法。在HCl（0．05mol／L）中，在-0．3V（vs．Ag／AgCl）下，Cu2＋和Bi3＋电沉积在电极表面，再在溶液中溶解氧的作用下，铜和铋从电极表面溶出，分别于0．30V和0．02V获得灵敏的电位溶出峰。微分电位溶出峰高（dr／dE）与铜和铋的浓度成线性关系，线性范围为5．0×10-9～1．55×10-7mol／L，检出限分别为4．0×10-9和2．5×10-9mol／L（S／N=3）。方法用于实际样品中铜和铋的测定，结果令人满意。
简介：采用电位滴定法测定强酸、强碱对NH3-NH4Cl缓冲溶液的滴定曲线，测定了常见的4种NH3-NH4Cl缓冲溶液对强酸、强碱的缓冲容量。通过对滴定曲线和实验数据的分析得到了4种NH3-NH4Cl缓冲溶液缓冲能力的大小比较关系，不仅有助于理解缓冲溶液及缓冲容量的概念而且对分析测试中正确选择缓冲溶液的配制方法及用量具有指导意义。
硒碳糊电极微分电位溶出法测定铜和铋
电位滴定法测定NH3-NH4Cl缓冲溶液的缓冲容量
