简介:以TiC14为源物质采用常压化学气相沉积法制备了TiO2薄膜。用紫外光谱测定了膜的透过率,进而计算出折光率、消光系数、光学带隙能等光学参数。结果发现,在不同气流量、沉积温度为100~250℃的条件下制备的TiO2膜,其折射率在2.16~2.82范围内,消光系数在0.04×10-3~6.70×10-3范围内,光学带隙能在2.8~3.08eV范围内。在光催化作用下,TiO2膜用于处理苯酚溶液,苯酚的转化率高达54.05%。关键词##4化学气相沉积(CVD);沉积率;折光率;消光系数;光催化更多还原
简介:采用溶胶-凝胶法制备了Mn离子摩尔掺杂比.32分别为0,2%,4%,6%,8%的Ba(Ti1-xMnx)O3铁电薄膜。研究发现:当x为6%时,漏电流和矫顽场均达到最小,与未掺杂时相比,漏电流降低了约3个量级,矫顽场电场强度降低了约60%,P—E回线的矩形度增加。实验结果表明:通过适量掺杂Mn离子,可以改善BaTiO3铁电薄膜电学性能,提高铁电薄膜的极化,降低薄膜的漏电流。
简介:薄膜物理与制备技术研究对于惯性约束聚变(ICF)实验具有重要意义,2003年开展的研究工作主要包括几个方面的内容:低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)法微球CH涂层及掺杂(溴等)技术研究;脉冲激光沉积(PLD)法Fe/Al合金薄膜研制;磁控溅射法Au/Gd,Ti/A1,Ti/Cr支撑薄膜研制;碳氢氮(CxNyH1-x-y)薄膜制备技术研究。相应主要结果如下:(1)利用低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)装置深入考察了以反式-2-丁烯如下:
简介:采用溶胶-凝胶法制备了Pt/Bi3.15Nd0.85Ti3O12/SrTiO3/Si多层电容即金属-铁电层-绝缘层-半导体结构,并对其电学性能进行了测试与分析。获得的存储窗口电压约为2.5V,漏电流密度低于10-8A·cm-2,保持时间达7.5h以上。制备的SrTiO3薄膜表现出较高的介电性和较好的绝缘性。
简介:TN2522000031830用于自相位调制器的KTP离子交换光波导=Selfphasemodulationofion-exchangedwaveguidesinKTiOPO4[会,中]/李玉善,马少杰(中科院长春物理所激发态物理开放实验室.吉林,长春(130021)),多田邦雄(日本东京大学工学部电子工学科.日本)//全国第九次光纤通信暨第十届集成光学学术会议.—秦皇岛,99.08在周期结构非线性光波导的准相位匹配倍频激光及级联二阶非线性光-光超快调制/开关器的研究中采用了Rb/Ba离子交换KTiOPO4(KTP)光波导。利用了
简介:TQ171.73498010603纳米级微孔SiO2玻璃材料制备技术研究.Ⅰ.纳米级微孔SiO2玻璃粉末的研制=Studiesofthetechnologiesofpreparingmicroporoussilicaglassmaterials.I.Preparationofmicroporoussilicapowder[刊,中]/曾庭英,刘剑波,邱勇,宋心琦(清华大学化学系.北京(100084)),杜金环,陈柳生(中科院化学研究所.北京(100080))//功能材料.—1997,28(3).—268—271在研究了不同酸碱催化剂、不同化学添加助剂、不同热处理工艺对以正硅酸乙脂(TEOS)为原料、用溶