摘要
quasistatic一致设计被做为不平表面的粘附描绘有效连贯的地区行为。在一致设计的上下文，为一个不平的接口的一致连贯的地区(HCZ)的拖拉对分离关系能在显微镜的粘附和decohesion进程期间由于不稳定性是高度摆动的。不稳定性被发现不仅个别地而且一起发生在粘合剂之中微粗糙的接触，导致广泛的精力驱散。基于HCZ关系的行为，为在不平表面的粘附描述导致不稳定性的精力驱散的一个框架被建议阐明明显的接口粘附上的粗糙的效果。二个非维的参数，与粗糙形态学有关的伪和与aw分发有关的n，被识别为控制精力驱散很关键。为浅粗糙和强壮的内在的粘合剂力量的一个接口，如果我们使它更不平，接口粘附能更强壮(减少伪)或降低它的aw密度(增加的n)。HCZ设计方法能潜在地被扩大并且采用了为与多尺度的浅粗糙设计表面从内在的粘附性质衔接明显的粘附。
出版日期
2009年05月15日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
