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高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势
高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势
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摘要
【摘要】本文结合笔者多年的研究与实践,结合国内外ITO靶材主要成形、烧结工艺的研究情况,探讨高致密ITO靶材制备工艺的研究现状和发展趋势,以供参考。
DOI
lde83z3ed3/5254189
作者
廖政堂
机构地区
广西晶联光电材料有限责任公司
出处
《科学与技术》
2021年6期
关键词
高致密
ITO靶材
制备工艺
成形工艺
研究现状
发展趋势
分类
[建筑科学][建筑技术科学]
出版日期
2021年06月09日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
科学与技术
2021年6期
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