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《电子电路与贴装》
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碱性蚀刻技术
碱性蚀刻技术
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摘要
化学基本原理碱性蚀刻的基本机理就是碱性氯化铜化学反应(见图1)是二价铜离子氧化金属铜生成亚铜离子。这种平衡同样在酸性氯化铜中的二价铜氧化浸蚀铜金属。所以,在碱性环境条件下,发生亚铜离子和二价铜离子的氨的络合物。更进一步利用通入空气使酸性氯化铜蚀刻液中亚铜离子氧化成二价铜离子。如下反应:
DOI
54k2lvey4k/411781
作者
机构地区
不详
出处
《电子电路与贴装》
2006年1期
关键词
碱性环境
蚀刻技术
二价铜离子
亚铜离子
化学反应
氯化铜
分类
[电子电信][电路与系统]
出版日期
2006年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
电子电路与贴装
2006年1期
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