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High Coercive NdFeB Thin Film Obtained by Diffusion Annealing

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摘要散开的磁性和微观结构退火了[Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta]薄电影被调查了。这些电影被在为10min的650℃退火与Nd/NdFeB层(R=0～3.3)的各种各样的厚度比率在Si底层上扔，然后扩散了并且结晶。没有Nd层的电影显示出软磁性的行为和a-Fe阶段的高内容。有R的电影>=1与大约20kOe的高coercivity显示出好难磁性。

DOI 7j6gg260d0/1044042

作者 M.J.Kim and Y.B.Kim

机构地区不详

出处《材料科学技术学报：英文版》 2000年2期

关键词

分类 [一般工业技术][材料科学与工程]

出版日期 2000年02月12日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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